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POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE SILOXANE COMPOSITION AND CURED FILM FORMED BY USING THE SAME

机译:通过使用相同的正型光敏硅氧烷组合物和固化膜

摘要

[Object] To provide a positive type photosensitive composition capable of forming a cured film having high transparency [Means] The present invention provides a positive type photosensitive siloxane composition comprising: a polysiloxane, a diazonaphthoquinone derivative, an additive having a >N—C(═O)— or >N—C(═S)— structure and the capability of interacting with the polysiloxane, and a solvent. The polysiloxane and the additive interact with each other before exposure, but they lose the interaction after exposure.
机译:[对象]为了提供能够形成具有高透明度的固化膜的正型光敏组合物[分段]本发明提供一种正型光敏硅氧烷组合物,其包含:聚硅氧烷,重氮萘醌衍生物,具有> N-C的添加剂( ═O) - 或> N-C(═S) - 结构和与聚硅氧烷相互作用的能力,以及溶剂。聚硅氧烷和添加剂在暴露前彼此相互作用,但在暴露后失去相互作用。

著录项

  • 公开/公告号US2021116811A1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-04-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MERCK PATENT GMBH;

    申请/专利号US201816607966

  • 申请日2018-04-25

  • 分类号G03F7/075;G03F7/023;G03F7/004;C08G77/04;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 18:20:00

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