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POLYMER THIN FILM OF POROUS STRUCTURE WITH SELECTIVE ETCHING AND METHOD THEROF, CHEMICAL SENSOR USING THE SAME

机译:多孔结构聚合物薄膜,具有选择性蚀刻和方法,化学传感器使用相同

摘要

The present invention relates to a method for manufacturing a polymer thin film having a porous structure through selective etching with improved sensor performance through a polymer thin film having an increased surface area having a rough surface and a porous structure, and a chemical sensor using the same, and dissolved in P3HT and PCBM solvents. Preparing a mixed solution, coating the mixed solution on a substrate, heat-treating the coated substrate, and selectively etching the PCBM of the heat-treated substrate.
机译:本发明涉及一种用于制造具有多孔结构的聚合物薄膜的方法,通过选择性蚀刻通过具有具有粗糙表面和多孔结构的增加的表面积和多孔结构的高度表面积,以及使用相同的化学传感器的聚合物薄膜,并溶解在P3HT和PCBM溶剂中。制备混合溶液,将混合溶液涂布在基材上,热处理涂覆的基材,并选择性地蚀刻热处理基材的PCBM。

著录项

  • 公开/公告号KR102237032B1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-04-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR1020190085630

  • 申请日2019-07-16

  • 分类号H01L51;C08K5/10;C08L65;G01N27/414;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-24 18:07:18

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