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PATTERN-TO-DESIGN ALIGNMENT FOR ONE-DIMENSIONAL UNIQUE STRUCTURES

机译:用于一维唯一结构的模式与设计对齐

摘要

Care areas for a first image of a die can be determined according to a 1D offset correction. The 1D offset correction can be based on 1D offsets between the first image and a second image for each of the image frames and also can be based on 1D offsets between a design and the second image for each of the image frames. The care areas can have a zero border for a dimension that is aligned to the design and a legacy border for the other dimension.
机译:可以根据1D偏移校正确定模具的第一图像的护理区域。 1D偏移校正可以基于用于每个图像帧的第一图像和第二图像之间的1D偏移,并且还可以基于用于每个图像帧的设计和第二图像之间的1D偏移。护理区域可以具有零边界,尺寸与设计和其他维度对齐的尺寸。

著录项

  • 公开/公告号US2021090271A1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-03-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 KLA CORPORATION;

    申请/专利号US201916578917

  • 发明设计人 BJORN BRAUER;

    申请日2019-09-23

  • 分类号G06T7/30;G06T7;H01L23/544;

  • 国家 US

  • 入库时间 2024-06-14 21:23:21

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