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A method for the production of low-oxygen gallium arsenide with the use of silicon or germanium as a dopant

机译:一种使用硅或锗作为掺杂剂生产低氧砷化镓的方法

摘要

The invention relates to a method of producing oxygen poor gallium arsenide with silicon or germanium as a dopant. An element of the III group of the Periodic System, particularly aluminum, is added to the gallium arsenide containing melt for gettering the oxygen. The invention is particularly suited for the production of gallium arsenide, which is processed into luminescence diodes.
机译:本发明涉及一种以硅或锗为掺杂剂生产贫氧砷化镓的方法。周期性系统的III族元素,特别是铝,被添加到含砷化镓的熔体中以吸除氧气。本发明特别适合于生产被加工成发光二极管的砷化镓。

著录项

  • 公开/公告号DE2021345A1

    专利类型

  • 公开/公告日1972-01-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SIEMENS AG;

    申请/专利号DE19702021345

  • 发明设计人 TOUCHYWOLFGANGDIPL.-PHYS.DR.;

    申请日1970-04-30

  • 分类号B01J17/36;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-23 08:23:08

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