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process for obtaining a uniform radial trend of resistance in the manufacture of a wand monocristallina of semiconductor material

机译：半导体材料的单棒法制造中获得均匀的电阻径向趋势的方法

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机译：

著录项

  • 公开/公告号IT956790B

    专利类型

  • 公开/公告日1973-10-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SIEMENS AG;

    申请/专利号IT19720026098

  • 发明设计人

    申请日1972-06-23

  • 分类号B01J;

  • 国家 IT

  • 入库时间 2022-08-23 07:32:20

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