首页> 外国专利> MIGRATION IMAGING PROCESS WITH UNIFORM EXPOSURE BEFORE OR DURING THE SOFTENING STEP

MIGRATION IMAGING PROCESS WITH UNIFORM EXPOSURE BEFORE OR DURING THE SOFTENING STEP

机译:在软化步骤之前或之中,具有均匀曝光的迁移成像过程

摘要

A positive to positive (negative to negative) imaging system the imaging member generally comprising, in its simplest form, photosensitive fracturable material contained in a softenable electrically insulating layer on a substrate, the process steps generally comprising in a preferred embodiment, uniform charging, uniform exposure and imagewise exposing while the softenable layer is soft. For some photosensitive materials, the uniform exposure step may be eliminated.
机译:正到正(负到负)成像系统,成像部件通常包括最简单形式的光敏可破碎材料,该材料包含在基板上的可软化电绝缘层中,在优选实施例中,处理步骤通常包括均匀充电,均匀可软化层较软时进行曝光和成像曝光。对于某些光敏材料,可以省去均匀的曝光步骤。

著录项

  • 公开/公告号US3839030A

    专利类型

  • 公开/公告日1974-10-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 XEROX CORPUS;

    申请/专利号US19670642828

  • 发明设计人 GOFFE WUS;

    申请日1967-06-01

  • 分类号G03G13/22;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-23 04:54:01

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号