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method for the preparation of a new year that can be applied to a litho graphic pressure system.

机译:可以用于光刻图形压力系统的新年准备方法。

摘要

A developer for use with a lithographic photo-sensitive medium of a polyether resin, comprising a compound of the formula: RO-CH2-CH2-O-kR1 or ROCH2CH2OR2 (wherein R represents an alkyl group with carbon number of 1 to 4, R1 represents hydrogen or an acyl group, R2 represents an acyl group with a carbon number of 2 to 5, and k represents an integer of 2 to 3).
机译:用于聚醚树脂的光刻光敏介质的显影剂,其包含下式的化合物:RO-CH2-CH2-O-kR1或ROCH2CH2OR2(其中R表示碳原子数为1-4的烷基,R1表示氢或酰基,R 2表示碳数为2至5的酰基,并且k表示2至3的整数。

著录项

  • 公开/公告号NL7608283A

    专利类型

  • 公开/公告日1977-02-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利号NL19760008283

  • 发明设计人

    申请日1976-07-27

  • 分类号G03F7/02;

  • 国家 NL

  • 入库时间 2022-08-23 00:48:42

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