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DOPING METHOD OF IMPURITIES TO GROUP IIIIV COMPOUND SEMICONDUCTORS

机译:IIIIV族化合物半导体杂质的掺杂方法

摘要

PURPOSE:To perform impurity doping by providing an impurity-doped group III-V compound separately from a growth gas system in addition to a raw material for growth of group III-V compound semiconductor, etching the same and introducing it into the growth gas system.
机译:目的:通过除了生长III-V族化合物半导体的生长原料之外,还与生长气体系统分开提供掺杂III-V族化合物的杂质来进行杂质掺杂,将其蚀刻并将其引入生长气体系统中。

著录项

  • 公开/公告号JPS53123069A

    专利类型

  • 公开/公告日1978-10-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NIPPON ELECTRIC CO;

    申请/专利号JP19770037735

  • 发明设计人 YOSHIDA MASAJI;WATANABE HISATSUNE;

    申请日1977-04-01

  • 分类号H01L21/22;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-22 23:25:53

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