首页> 外国专利> Fabrication of diffractive subtractive filter embossing master

Fabrication of diffractive subtractive filter embossing master

机译:衍射减法滤光片压花母版的制作

摘要

A recording blank, composed of at least one diffraction grating substrate, such as nickel, covered with a layer of photoresist is used to produce an embossing master by exposing the photoresist to picture information composed of respective white and non-white manifesting regions; developing the exposed photoresist to reveal the grating portions underlying solely the white manifesting regions; electroplating and/or etching the revealed portions to level and obliterate the revealed grating portions, and then removing the remainder of the photoresist.
机译:记录坯料由至少一个覆盖有一层光刻胶的衍射光栅基板(例如镍)组成,用于通过将光刻胶曝光于由白色和非白色显现区域组成的图像信息来制作压花母版。显影曝光的光致抗蚀剂以露出仅在白色表现区域下方的光栅部分;电镀和/或蚀刻所露出的部分以使所露出的光栅部分平整和消隐,然后去除光致抗蚀剂的剩余部分。

著录项

  • 公开/公告号US4108660A

    专利类型

  • 公开/公告日1978-08-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 RCA CORPORATION;

    申请/专利号US19770781304

  • 发明设计人 JAMES KANE;MICHAEL THOMAS GALE;

    申请日1977-03-25

  • 分类号G03C5/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 21:26:50

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号