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A method for controlling the chemical depositing of oberflaechenueberzuegen from the vapor phase

机译：控制气相中奥伯弗拉格勃努根化学沉积的方法

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摘要

PURPOSE:Reduction of number of coarse particles by controlling the flow quantity various reaction gases when thin film is formed on the surface of the sample.

机译：目的：通过控制在样品表面形成薄膜时各种反应气体的流量来减少粗颗粒的数量。

著录项

公开/公告号DE2625360C3

专利类型
公开/公告日1980-09-04

原文格式PDF
申请/专利权人 HITACHI LTD. TOKIO;
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申请/专利号DE19762625360
发明设计人 SUDA KYO HACHIOJI TOKIO;HASE SHINOBU;HACHIOJI TOKIO;TAKAMI KATSUMI TOKIO;SHINTANI AKIRA;
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申请日1976-06-04
分类号C23C11/00;
国家 DE
入库时间 2022-08-22 17:39:47

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