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机译:一种制备抗反射层更多的涂层的方法和光学体,其中光学层的涂层减少了
公开/公告号DE3009533A1
专利类型
公开/公告日1981-09-17
原文格式PDF
申请/专利权人 D. SWAROVSKI & CO. 6112 WATTENS TIROL AT;
申请/专利号DE19803009533
发明设计人 WALLNER THEODOR VOLDERS AT;GANNER PETER DR. INNSBRUCK AT;
申请日1980-03-12
分类号C03C17/245;
国家 DE
入库时间 2022-08-22 15:12:13
机译: 多层光学抗反射涂层的制造方法和结构,以及使用多层光学抗反射涂层的光学部件和光学系统
机译: 通过磁性溅射在基底上快速沉积化合物层的方法,可用于在各种基底上沉积光学,装饰,硬质和减磨涂层以及其他改善表面的涂层
机译: 用于制造模制体或将涂层施加到工件上的方法包括将模制体分层堆积或施加由至少两个单独的层组成的涂层