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机译:真空沉积金属薄膜和介电SLEKTRIKOV I METALLOV的装置
公开/公告号PL120555B2
专利类型
公开/公告日1982-03-31
原文格式PDF
申请/专利权人
申请/专利号PL19800222139
发明设计人
申请日1980-02-19
分类号C23C15/00;
国家 PL
入库时间 2022-08-22 13:39:04
机译: 真空沉积金属薄膜和介电SLEKTRIKOV I METALLOV的装置
机译: 用于真空膜沉积设备的防粘板,制造真空膜沉积设备的防粘板的方法,真空膜沉积设备和真空膜沉积方法
机译: 薄的薄膜沉积设备,基板处理设备,薄的薄膜沉积方法和计算机可读存储介质,能够在沿转向方向加载多个晶片的情况下包括真空腔和转盘