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机译:散打法
公开/公告号JPS5946094B2
专利类型
公开/公告日1984-11-10
原文格式PDF
申请/专利权人 FUJITSU LTD;
申请/专利号JP19760044613
发明设计人 ITOGA MASANAO;ICHIKAWA TOSHIRO;INOE MINORU;SATO JUNJI;
申请日1976-04-19
分类号H01L21/302;H01L21/3065;
国家 JP
入库时间 2022-08-22 09:32:59
机译: 用于控制陶瓷体的散射刻痕的方法和装置
机译: 主动投篮方法
机译: 散打法