首页> 外国专利> TEST PATTERNS FOR MEASUREMENT OF FREQUENCY CHARACTERISTICS OF PHOTOCHEMICAL SENSITIVE MATERIALS

TEST PATTERNS FOR MEASUREMENT OF FREQUENCY CHARACTERISTICS OF PHOTOCHEMICAL SENSITIVE MATERIALS

机译:光化学敏感材料频率特征的测试模式

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号CS224765B1

    专利类型

  • 公开/公告日1984-01-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HOLAN JIRI RNDR.CS;

    申请/专利号CS19810008899

  • 发明设计人 HOLAN JIRI RNDR.CS;

    申请日1981-12-01

  • 分类号G03C5/02;

  • 国家 CS

  • 入库时间 2022-08-22 09:22:41

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号