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Method for forming high superconducting T.sub.c niobium nitride film at ambient temperatures

机译:在环境温度下形成高超导碳化三铌铌薄膜的方法

摘要

A method of forming a high T.sub.c niobium nitride (NbN) film on a substrate at ambient substrate temperature. The method includes the step of reactively sputtering NbN onto the substrate in an argon-nitrogen atmosphere with controlled amounts of methane added to the argon-nitrogen gas mixture.
机译:一种在环境衬底温度下在衬底上形成高Tc氮化铌(NbN)膜的方法。该方法包括在氩-氮气氛中将NbN反应溅射到衬底上的步骤,其中将受控量的甲烷添加到氩-氮气体混合物中。

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