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LOW CONCENTRATION TRIVALENT CHROMIUM ELECTROPLATING SOLUTION AND PROCESS

机译:低浓度三价铬电镀液及工艺

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号IE49204B1

    专利类型

  • 公开/公告日1985-08-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION;

    申请/专利号IE19790002160

  • 发明设计人

    申请日1979-11-09

  • 分类号C25D3/06;

  • 国家 IE

  • 入库时间 2022-08-22 08:15:33

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