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Method for fabricating photovoltaic device having improved short wavelength photoresponse

机译:具有改善的短波长光响应的光伏器件的制造方法

摘要

Amorphous p-i-n silicon photovoltaic cells with improved short wavelength photoresponse are fabricated with reduced p-dopant contamination at the p/i interface. Residual p-dopants are removed by flushing the deposition chamber with a gaseous mixture capable of reacting with excess doping contaminants prior to the deposition of the i- layer and subsequent to the deposition of the p-layer.
机译:制造具有改善的短波长光响应的非晶p-i-n硅光伏电池,并在p / i界面处减少p-掺杂剂的污染。通过在沉积i-层之前和沉积p-层之后用能够与过量掺杂污染物反应的气体混合物冲洗沉积室,来去除残留的p-掺杂剂。

著录项

  • 公开/公告号US4845043A

    专利类型

  • 公开/公告日1989-07-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CATALANO;ANTHONY W.;

    申请/专利号US19870041532

  • 发明设计人 ANTHONY W. CATALANO;

    申请日1987-04-23

  • 分类号H01L31/18;H01L21/20;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 06:27:51

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