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Target support device in an ion beam sputtering device

机译:离子束溅射装置中的靶支撑装置

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号JPH04123255U

    专利类型

  • 公开/公告日1992-11-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号JP19910033378U

  • 发明设计人

    申请日1991-04-12

  • 分类号C23C14/46;C23C14/34;H01L21/203;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-22 05:45:17

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