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Centrifugal spin dryer for semiconductor wafer

机译:半导体晶圆离心甩干机

摘要

Apparatus for spin drying a semiconductor wafer by centrifugal force. The appartus spins the wafer about a selected axis while the wafer is being rinsed, and then displaces the wafer away from the axis along a path of travel circumscribing the axis to dry the wafer.
机译:通过离心力旋转干燥半导体晶片的设备。在冲洗晶片时,装置围绕选定的轴旋转晶片,然后沿着围绕轴的行进路径将晶片从轴上移开,以干燥晶片。

著录项

  • 公开/公告号EP0434307A3

    专利类型

  • 公开/公告日1992-12-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 WESTECH SYSTEMS INC.;

    申请/专利号EP19900313617

  • 发明设计人 GILL GERALD L. JR.;

    申请日1990-12-13

  • 分类号H01L21/30;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-22 05:06:59

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