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Centrifugal spin dryer for semiconductor wafer

机译:半导体晶圆离心甩干机

摘要

Apparatus for spin drying a semiconductor wafer by centrifugal force. The apparatus spins the wafer about a selected axis while the wafer is being rinsed, and then displaces the wafer away from the axis along a path of travel circumscribing the axis to dry the wafer.
机译:通过离心力旋转干燥半导体晶片的设备。该设备在冲洗晶片时围绕选定的轴旋转晶片,然后沿着围绕轴的行进路径将晶片从轴上移开,以干燥晶片。

著录项

  • 公开/公告号US4989345A

    专利类型

  • 公开/公告日1991-02-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 GILL JR.;GERALD L.;

    申请/专利号US19890451950

  • 发明设计人 GERALD L. GILL JR.;

    申请日1989-12-18

  • 分类号F26B17/24;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 05:47:01

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