首页> 外国专利> CVD DIAMOND COATING ON HYDRID-FORMING METAL SUBSTRATES

CVD DIAMOND COATING ON HYDRID-FORMING METAL SUBSTRATES

机译:形成水的金属基体上的CVD金刚石涂层

摘要

A method for producing CVD diamond film on a substrate comprised of a hydride-forming metal is provided. The substrate provides for easy release of the CVD diamond coating formed thereon upon exposure to a hydrogen pressure. Self-supporting CVD diamond films of large dimension are easily obtained without dissolving the substrate. The substrate can be used in conventional CVD reactors.
机译:提供一种在由氢化物形成金属构成的基板上制造CVD金刚石膜的方法。当暴露于氢气压力下时,该基材易于释放在其上形成的CVD金刚石涂层。在不溶解衬底的情况下容易获得大尺寸的自支撑CVD金刚石膜。该基材可用于常规的CVD反应器中。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号