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METHOD FOR COATING A DIAMOND THIN FILM OF DIES FOR DRAWING

机译:金刚石模具拉膜涂膜方法

摘要

The method uses DC arc plasma and comprises a mixture of argon gas and hydrogen gas as an electrospark gas, a mixture of methane gas and hydrogen gas as carbon source. The method includes the steps of: performing a previous treatment by injecting SiC powder on a hole inner wall in a ceramic base metal to a thickness of 1 to 3 micron; generating plasma in advance by the electrospark gas; and dissolving the mixture of methane gas and hydrogen gas into a radical state.
机译:该方法使用直流电弧等离子体,并且包括氩气和氢气的混合物作为电火花气体,甲烷气和氢气的混合物作为碳源。该方法包括以下步骤:通过在陶瓷基体金属的孔内壁上注入厚度为1-3微米的SiC粉来执行先前的处理;通过电火花气体预先产生等离子体;将甲烷气体和氢气的混合物溶解成自由基状态。

著录项

  • 公开/公告号KR960008149B1

    专利类型

  • 公开/公告日1996-06-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SSANGYONG CEMENT IND. CO. LTD.;

    申请/专利号KR19930024412

  • 发明设计人 JANG KAM - YONG;PARK KEUN - BAE;

    申请日1993-11-17

  • 分类号C23C16/22;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-22 03:45:32

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