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Lateral resonant tunneling device having gate electrode aligned with tunneling barriers

机译:具有与隧穿势垒对准的栅电极的横向谐振隧穿器件

摘要

A resonant tunneling transistor (400) with lateral carrier transport through tunneling barriers (404, 408) grown as a refilling of trenches etched partially into a transverse quantum well (410) and defining a quantum wire or quantum dot (406). The fabrication methods include use of angled deposition to create overhangs at the top of openings which define sublithographic separations for tunneling barrier locations.
机译:具有横向载流子传输通过隧穿势垒(404、408)的谐振隧穿晶体管(400),该隧穿势垒被生长为部分蚀刻到横向量子阱(410)中并限定量子线或量子点(406)的沟槽的填充。所述制造方法包括使用成角度的沉积来在开口的顶部产生悬突,所述悬突限定了用于隧穿势垒位置的亚光刻间隔。

著录项

  • 公开/公告号US5504347A

    专利类型

  • 公开/公告日1996-04-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED;

    申请/专利号US19940323983

  • 发明设计人 JOHN N. RANDALL;DEJAN JOVANOVIC;

    申请日1994-10-17

  • 分类号H01L29/06;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 03:38:49

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