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机译：离子束溅射装置中的靶支撑装置
公开/公告号JP2541165Y2
专利类型
公开/公告日1997-07-09
原文格式PDF
申请/专利权人 日新電機株式会社;
申请/专利号JP19910033378U
发明设计人 橋本 一;
申请日1991-04-12
分类号C23C14/46;H01L21/203;
国家 JP
入库时间 2022-08-22 03:31:03
机译： 旋转式切刀靶基，旋转式切刀靶，涂层安装，生产旋转式切刀靶的方法，靶基连接装置以及将旋转式靶基设备连接以将安装溅射到靶基支持的方法
机译： 旋转式切刀靶基，旋转式切刀靶，涂层安装，生产旋转式切刀靶的方法，靶基连接装置以及将旋转式靶基设备连接以将安装溅射到靶基支架的方法
