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SUBSTRATES FOR THE GROWTH OF 3C-SILICON CARBIDE.

机译:3C-碳化硅生长的基质。

摘要

A substrate for the growth of monocrystalline beta -SiC is formed by providing a body of monocrystalline hexagonal material having a planar surface with a lattice parameter that is within +/-5% of the lattice parameter of 6H alpha -SiC in the basal plane and growing a body of monocrystalline cubic material on the surface to provide a planar cubic material surface that is without grain boundaries, subgrain boundaries, double positioning boundaries, and pits. The cubic material, for example TiC, ZrC, HfC, or TiN, has a rock salt structure and a lattice parameter within +/-5% of the lattice parameter of beta -SiC. Monocrystalline beta -SiC can be nucleated and grown on the surface of the cubic material.
机译:通过提供具有平面表面的单晶六边形材料的主体来形成用于生长单晶β-SiC的衬底,该平坦表面的晶格参数在基面上的6Hα-SiC晶格参数在+/- 5%范围内,并且在表面上生长单晶立方材料体,以提供没有晶粒边界,亚晶粒边界,双重定位边界和凹坑的平面立方材料表面。立方材料,例如TiC,ZrC,HfC或TiN,具有岩盐结构,晶格参数在β-SiC晶格参数的+/- 5%之内。单晶β-SiC可以在立方材料的表面成核并生长。

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