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Low voltage mosfet with low on-resistance and high breakdown voltage

机译:具有低导通电阻和高击穿电压的低压MOSFET

摘要

A low voltage power MOSFET is disclosed which includes spaced apart base regions defining a conduction region therebetween. A highly doped region is provided adjacent the conduction region and is spaced from the base regions, being substantially equidistant thereto and extending therebelow. The spacing of the highly doped region from the base regions provides enhanced conductivity of the device and avoids the problem of device breakdown and punchthrough in regard to the source regions of the low voltage power device.
机译:公开了一种低压功率MOSFET,其包括间隔开的基极区域,所述基极区域之间限定了导电区域。在导电区域附近提供高掺杂区域,该高掺杂区域与基极区域间隔开,与基极区域基本等距并在其下方延伸。高掺杂区与基极区的间隔提供了增强的器件导电性,并且避免了关于低压功率器件的源极区的器件击穿和击穿的问题。

著录项

  • 公开/公告号EP0779665A2

    专利类型

  • 公开/公告日1997-06-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SILICONIX INCORPORATED;

    申请/专利号EP19960118744

  • 发明设计人 WILLIAMS RICHARD K.;

    申请日1996-11-22

  • 分类号H01L29/78;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-22 03:19:35

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