首页> 外国专利> Method of cutting wafer

Method of cutting wafer

机译:晶片切割方法

摘要

The present invention relates to a method for cutting a wafer, and more particularly to a method for forming a cover layer on an upper side of a wafer attracted to a vacuum chuck so that cutting particles generated during cutting are not dropped, and cutting the wafer with a cutting edge. Therefore, according to the present invention, when a wafer is cut, a cover layer is formed on the upper side of the wafer or cutting is performed while the wafer to be cut is turned upside down. Accordingly, it is possible to further improve the yield of the chips and to reduce defects.
机译:切割晶片的方法技术领域本发明涉及一种切割晶片的方法,更具体地涉及一种在被真空吸盘吸引的晶片的上侧形成覆盖层以使得在切割过程中产生的切割颗粒不会掉落的方法,以及切割晶片的方法。具有尖端因此,根据本发明,当切割晶片时,在晶片的上侧形成覆盖层,或者在将要切割的晶片上下翻转的同时进行切割。因此,可以进一步提高芯片的成品率并减少缺陷。

著录项

  • 公开/公告号KR980011990A

    专利类型

  • 公开/公告日1998-04-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 김광호;

    申请/专利号KR19960028843

  • 发明设计人 최재헌;

    申请日1996-07-16

  • 分类号H01L21/304;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-22 02:45:25

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号