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Process of fabricating capacitor having waved rough surface of accumulating electrode

机译:具有累积电极的波状粗糙表面的电容器的制造方法

摘要

Crystal grains of a lower polysilicon layer is grown through an annealing or an ion-implantation before separation of the lower polysilicon layer into doped silicon pieces, an upper polysilicon layer with small crystal grains is deposited over the doped silicon pieces so as to wave at long intervals, and the upper polysilicon layer is roughened so as to wave at short intervals, thereby increasing the surface area of an accumulating electrode of a capacitor.
机译:在将下多晶硅层分离成掺杂的硅片之前,通过退火或离子注入来生长下多晶硅层的晶粒,具有小晶粒的上多晶硅层沉积在掺杂的硅片上,从而长时间地波动间隔,并且上多晶硅层被粗糙化从而以短间隔波动,从而增加了电容器的累积电极的表面积。

著录项

  • 公开/公告号US5700710A

    专利类型

  • 公开/公告日1997-12-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NEC CORPORATION;

    申请/专利号US19950553981

  • 发明设计人 MASANOBU ZENKE;

    申请日1995-11-06

  • 分类号H01L21/70;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 02:40:39

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