首页> 外国专利> Grain growth manner of CdZnTe thin film

Grain growth manner of CdZnTe thin film

机译:CdZnTe薄膜的晶粒生长方式

摘要

Abstract Objective At numerator beam epitaxy modulo, controllability of composition ratioWay it can form the CdZnTe mixed crystal thin film of high quality well,It does. Constitution On substrate, CdTe numerator beam and ZnTe numerator beamWith irradiating with the Te numerator beam, (or, the Cd numerator beam and Zn minuteIrradiating the meridian and the Te numerator beam), the CdZnTe mixed crystal thinThe grow epitaxially it can point to the film. At that time, with VI group elementThe lighting tonnage of certain Te, II group element which consists of Cd and ZnIt makes more than the lighting tonnage. Desirable VI group element and II group elementAs for ratio (VI/II ratio) of lighting tonnage, in 1.02 - 1.3 rangesCertain.
机译:<摘要> <目的>在分子束外延模量下,组成比的可控性可以很好地形成高质量的CdZnTe混合晶体薄膜。 <构成>在基板上,以Te分子束辐照CdTe分子束和ZnTe分子束(或Cd分子束和Zn分钟辐照子午线和Te分子束),CdZnTe混合晶体薄外延生长可以指向这个电影。当时,用VI族元素由镉和Zn组成的某些Te,II族元素的发光吨位要比发光吨位多。理想的VI族元素和II族元素的发光吨数之比(VI / II比)在1.02〜1.3的范围内。

著录项

  • 公开/公告号JP2927420B1

    专利类型

  • 公开/公告日1999-07-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NIPPON DENKI KK;

    申请/专利号JP19980244594

  • 发明设计人 KAWANO MASAYA;

    申请日1998-08-31

  • 分类号C30B29/48;C30B23/08;H01L21/203;H01L21/363;H01L29/872;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-22 02:30:40

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号