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机译:直接在子框架上成型的柔性口罩的制备方法
公开/公告号ITGE990063D0
专利类型
公开/公告日1999-06-07
原文格式PDF
申请/专利权人 DIVERPLAST S.P.A.;
申请/专利号IT1999GE00063
发明设计人 ZOFFOLI GUIDO;
申请日1999-06-07
分类号B63Cnull/null;
国家 IT
入库时间 2022-08-22 02:25:17
机译: 形成子框架基础的柔性密封气膜的刚性和刚性的口罩制备方法
机译: 形成子框架基础柔性密封的刚性和刚性的口罩制备方法
机译: 蒸发掩模,具有框架的蒸发掩模,蒸发掩模的制备,蒸发掩模的制造方法,有机半导体元件的制造方法,有机EL显示器的制造方法以及图案形成方法