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Silicon carbide power MESFET with surface effect supressive layer

机译:具有表面效应抑制层的碳化硅功率MOSFET

摘要

A silicon carbide metal semiconductor field effect transitor fabricated on silicon carbide substrate with a layer which suppresses surface effects, and method for producing same. The surface-effect- suppressive layer may be formed on exposed portions of the transistor channel and at least a portion of each contact degenerate region. The surface-effect-suppressive layer may be made of undoped silicon carbide or of an insulator, such as silicon dioxide or silicon nitride. If the surface-effect-suppressive layer is made of silicon dioxide, it is preferred that the layer be fabricated of a combination of thermally- grown and chemical vapor deposition deposited silicon dioxide.
机译:在碳化硅衬底上制造的具有抑制表面效应的层的碳化硅金属半导体场效应晶体管及其制造方法。可以在晶体管沟道的暴露部分和每个接触退化区域的至少一部分上形成表面效应抑制层。所述表面效应抑制层可以由未掺杂的碳化硅制成,或者由诸如二氧化硅或氮化硅的绝缘体制成。如果表面效应抑制层由二氧化硅制成,则该层优选由热生长和化学气相沉积沉积的二氧化硅的组合制成。

著录项

  • 公开/公告号US5925895A

    专利类型

  • 公开/公告日1999-07-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NORTHROP GRUMMAN CORPORATION;

    申请/专利号US19970812227

  • 发明设计人 SAPTHARISHI SRIRAM;ROWLAND C. CLARKE;

    申请日1997-03-06

  • 分类号H01L31/0312;H01L29/12;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 02:07:47

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