首页> 外国专利> DEFECT ANALYSIS APPARATUS FOR PERFORMING DEFECT NAVIGATION OVER DEVICE UNDER TEST

DEFECT ANALYSIS APPARATUS FOR PERFORMING DEFECT NAVIGATION OVER DEVICE UNDER TEST

机译:在测试下对设备执行缺陷导航的缺陷分析设备

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a defective IC analysis apparatus which can efficiently perform data transfer between a plurality of such defective IC analysis apparatuses. ;SOLUTION: A defective IC analysis apparatus 10 outputs a status data 16. A positional coordinate contained in the status data 16 is defined as a coordinate on the apparatus 10. The data 16 is inputted to a data input part 20 of an EB tester 12 and then written in a hard disk as analysis data (A)34. The data (A)34 is read out by a data converter 22. The converter 22 converts the coordinate data obtained at the apparatus 10 into positional data having a CAD coordinate format usable in the tester 12. A CAD navigation unit 24 causes a CAD image of a mask pattern of a device 42 under test to be displayed on a display unit 32. When analysis data (A')36 is read into the navigation unit 24, the navigation unit 24 displays information based on the data (A') on the CAD image of the mask pattern displayed on the display unit 32.;COPYRIGHT: (C)2000,JPO
机译:解决的问题:提供一种缺陷IC分析设备,其可以在多个这样的缺陷IC分析设备之间高效地执行数据传输。 ;解决方案:有缺陷的IC分析设备10输出状态数据16。状态数据16中包含的位置坐标被定义为设备10上的坐标。数据16被输入到EB测试仪12的数据输入部分20。然后作为分析数据(A)34写入硬盘。数据(A)34由数据转换器22读出。转换器22将在设备10处获得的坐标数据转换成在测试仪12中可用的具有CAD坐标格式的位置数据。CAD导航单元24产生CAD图像。待测设备42的掩模图案显示在显示单元32上。当将分析数据(A')36读入导航单元24时,导航单元24基于数据(A')显示信息。显示在显示单元32上的掩模图案的CAD图像。COPYRIGHT:(C)2000,JPO

著录项

  • 公开/公告号JP2000133686A

    专利类型

  • 公开/公告日2000-05-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ADVANTEST CORP;

    申请/专利号JP19980303824

  • 发明设计人 MURAKAWA TSUTOMU;

    申请日1998-10-26

  • 分类号H01L21/66;G01R31/302;G06F11/22;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-22 02:02:39

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号