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ROLLER STRUCTURE OF ATMOSPHERIC PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM

机译:常压化学气相沉积系统的辊结构

摘要

The present invention relates to a roller of an AP CVD apparatus, and more particularly, to a roller of an AP CVD apparatus, in which an etch gas or a cleaning liquid is precipitated to prevent corrosion of a ball bearing, And the yield of the wafer can be improved.
机译:AP CVD设备的辊技术领域本发明涉及AP CVD设备的辊,更具体地,涉及其中沉积有蚀刻气体或清洁液以防止滚珠轴承腐蚀的AP CVD设备的辊,以及其产量。晶圆可以改善。

著录项

  • 公开/公告号KR100232999B1

    专利类型

  • 公开/公告日1999-12-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD.;

    申请/专利号KR19960056145

  • 发明设计人 서대건;

    申请日1996-11-21

  • 分类号H01L21/205;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-22 01:46:21

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