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DRIER OF WAFER

机译:威化先生

摘要

Purpose: a drying machine of chip is arranged to reduce IPA (IsoPropyl alcohol) gas in room in upper take, and includes many impurity dryings in wafer process and saves the time for changing IPA solution. Construction: a drying machine of chip includes: a process chamber (206), it is used for IPA (IsoPropyl alcohol) the first trap (208) and the second trap (214) for being applied to prevent IPA spray solutions: heating equipment (202) (204), for manufacturing IPA gases by heating IPA cooling worms (230) (232) (234), include the water for refrigerating IPA gases in the process chamber.
机译:目的:设置芯片干燥机以减少室内最大进样量的IPA(异丙醇)气体,并在晶片工艺中进行许多杂质干燥,从而节省了更换IPA溶液的时间。结构:芯片干燥机包括:处理室(206),用于IPA(异丙醇)的第一阱(208)和第二阱(214),用于防止IPA喷雾溶液:加热设备(用于通过加热IPA冷却蜗杆(230)(232)(234)来制造IPA气体的202)(204)包括用于在处理室中制冷IPA气体的水。

著录项

  • 公开/公告号KR20000021734A

    专利类型

  • 公开/公告日2000-04-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HYUNDAI MICRO ELECTRONICS CO. LTD.;

    申请/专利号KR19980040983

  • 发明设计人 DO KI SUNG;

    申请日1998-09-30

  • 分类号H01L21/02;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-22 01:45:56

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