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RENDERING METHOD AND APPARATUS OF PERFORMING BUMP MAPPING AND PHONG SHADING AT THE SAME TIME

机译:同时进行凹凸贴图和冲击阴影渲染的渲染方法和装置

摘要

PURPOSE: A rendering method and a rendering apparatus for bump mapping and phong shading are provided to perform simultaneously bump mapping and phong shading by improving a rendering method and a rendering apparatus. CONSTITUTION: The device comprise the first to the third interpolators(21,22,23), a bump map(24), the first and the second multipliers(25,26), the first and the second multiplexers(27,28), an exponent calculation portion(29), and an adder(30). A rendering method for bump mapping and phong shading a process for calculating ambient element values, a process for calculating and outputting diffusion element values, a process for calculating specular element values, a process for outputting selectively the specular element values before bump mapping, and a process for obtaining a value of intensity.
机译:目的:提供一种用于凹凸贴图和phong着色的渲染方法和渲染设备,以通过改进渲染方法和渲染装置来同时执行凹凸贴图和phong shading。组成:该设备包括第一至第三插值器(21,22,23),凹凸贴图(24),第一和第二乘法器(25,26),第一和第二多路复用器(27,28),指数计算部分(29)和加法器(30)。用于凹凸贴图和phong着色的渲染方法,用于计算环境元素值的过程,用于计算和输出扩散元素值的过程,用于计算镜面元素值的过程,用于在凹凸贴图之前选择性地输出镜面元素值的过程以及获得强度值的过程。

著录项

  • 公开/公告号KR100261076B1

    专利类型

  • 公开/公告日2000-07-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD.;

    申请/专利号KR19950040496

  • 发明设计人 CHOI SEUNG-HAK;EO KIL-SU;

    申请日1995-11-09

  • 分类号G06T17/00;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-22 01:44:44

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