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Rare-earth element-doped III-V compound semiconductor schottky diodes and device formed thereby

机译:掺杂稀土元素的III-V族化合物半导体肖特基二极管及其形成的器件

摘要

A semiconductor device has an improved schottky barrier junction. The device includes: a substrate; an epitaxial layer covering the substrate and lightly doped with a dopant selected from a group consisting of a rare earth element and an oxidant of a rare earth element; and a metal layer covering the epitaxial layer and forming said schottky barrier junction with said epitaxial layer.
机译:半导体器件具有改进的肖特基势垒结。该装置包括:基板;外延层,覆盖衬底,并轻掺杂有选自稀土元素和稀土元素的氧化剂的掺杂剂;金属层覆盖外延层并与所述外延层形成所述肖特基势垒结。

著录项

  • 公开/公告号US6225200B1

    专利类型

  • 公开/公告日2001-05-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NATIONAL SCIENCE COUNCIL;

    申请/专利号US19980152212

  • 发明设计人 HANG-THUNG WANG;LIANN-BE CHANG;

    申请日1998-09-11

  • 分类号H01L212/80;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 01:04:28

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