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机译:使用烧结金属复合靶溅射合金膜
公开/公告号US6464844B1
专利类型
公开/公告日2002-10-15
原文格式PDF
申请/专利权人 DELPHI TECHNOLOGIES INC.;
申请/专利号US20000692298
发明设计人 GREGORY KELLER RASMUSSEN;ROBERT O. PICHULO;
申请日2000-10-19
分类号C23C143/40;
国家 US
入库时间 2022-08-22 00:49:46
机译: 制造不易产生颗粒的磁记录膜的钴基烧结合金靶材的制造方法以及磁记录膜的钴基烧结合金靶材的制造方法
机译: 制造不太可能产生颗粒的磁记录膜的钴基烧结合金靶的制造方法和磁记录膜的钴基烧结合金靶的制造方法
机译: 制造不易产生颗粒的磁记录膜的钴基烧结合金靶的制造方法,以及形成磁记录膜的钴基烧结合金靶的制造方法