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device for the manufacture of barriereschichten for gaseous and / or liquid substances on substrates, especially kunststoffsubstraten, by means of a plasmagestu00fctzten vapour deposition in a vakuumbehandlungskammer

机译:用于通过在真空装置中进行等离子气相沉积的方法,在基质(尤其是kunststoff基质)上制造用于气态和/或液态物质的屏障的设备

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号DE20112984U1

    专利类型

  • 公开/公告日2002-01-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 APPLIED FILMS GMBH & CO. KG 63755 ALZENAU DE;

    申请/专利号DE2001212984U

  • 发明设计人

    申请日2001-08-13

  • 分类号C23C16/40;C23C16/26;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-22 00:26:35

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