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Electron beam focussing method having beam displaced using electrical acceleration field/magnetic field combination providing desired focussing point position using equipotential plane

机译:使用电子加速场/磁场组合移动电子束的电子束聚焦方法,使用等电位平面提供所需的聚焦点位置

摘要

The electron beam (28) focussing method has an electron source (16) with the beam displaced from the propagation axis (Z). An electrical acceleration field is created along the axis. A magnetic field (B) is created along the propagation axis and cooperates with the electrical field to create a desired focussing point using the equipotential plane (48,50).
机译:电子束(28)聚焦方法具有电子源(16),其束从传播轴(Z)偏离。沿轴创建电加速场。沿传播轴产生磁场(B),并与电场配合使用等势平面(48,50)产生所需的聚焦点。

著录项

  • 公开/公告号FR2823907A1

    专利类型

  • 公开/公告日2002-10-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 COMMISSARIAT A LENERGIE ATOMIQUE;

    申请/专利号FR20010011541

  • 发明设计人 BARJON JULIEN;

    申请日2001-09-06

  • 分类号H01J29/58;H01J3/26;

  • 国家 FR

  • 入库时间 2022-08-22 00:24:10

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