机译:头单元,其设置方法和电子设备,液晶显示器的制造方法,有机电子设备的制造方法,电子发射设备的制造方法,PDP设备的制造方法,电子制造的制造方法,有机EL的制造方法,间隔形成方法,金属线形成方法,透镜形成方法,抗蚀剂形成方法和光扩散器形成方法
公开/公告号JP2003127343A
专利类型
公开/公告日2003-05-08
原文格式PDF
申请/专利权人 SEIKO EPSON CORP;
申请/专利号JP20010322826
申请日2001-10-19
分类号B41J2/01;G02B3/00;G02B5/02;G02B5/20;G02F1/1335;
国家 JP
入库时间 2022-08-22 00:13:39