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Antireflective silicon-containing compositions as hardmask layer

机译:抗反射的含硅组合物作为硬掩模层

摘要

Antireflective compositions characterized by the presence of an SiO-containing polymer having pendant chromophore moieties are useful antireflective coating/hardmask compositions in lithographic processes. These compositions provide outstanding optical, mechanical and etch selectivity properties while being applicable using spin-on application techniques. The compositions are especially useful in lithographic processes used to configure underlying material layers on a substrate, especially metal or semiconductor layers.
机译:特征在于存在具有侧生色团部分的含SiO的聚合物的抗反射组合物在光刻工艺中是有用的抗反射涂层/硬掩模组合物。这些组合物提供了出色的光学,机械和蚀刻选择性,同时适用于旋涂技术。该组合物在用于在衬底上配置下面的材料层,特别是金属或半导体层的光刻工艺中特别有用。

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