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Binary and phase-shift photomasks

机译:二元和相移光罩

摘要

The present invention relates to photomasks for use in semiconductor chip manufacture.
机译:本发明涉及用于半导体芯片制造中的光掩模。

著录项

  • 公开/公告号US2003022072A1

    专利类型

  • 公开/公告日2003-01-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 DIVERGING TECHNOLOGIES INC.;

    申请/专利号US20010809733

  • 发明设计人 JIM G. CAMPI;DOUGLAS J. VAN DEN BROEKE;

    申请日2001-03-13

  • 分类号B32B9/00;B32B17/06;G03F9/00;G03C5/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 00:08:22

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