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Correcting a mask pattern using a clip mask

机译:使用剪贴蒙版校正蒙版图案

摘要

Correcting a mask pattern includes partitioning the mask pattern to yield templates. The following is repeated for each template to generate correction data: a clip mask is generated for a template selected as a main template; the main template is merged with context templates to yield a merged template; the merged template is divided to yield segments including clip segments, where an intersection of the clip mask and the merged template defines an endpoint of a clip segment; a proximity correction procedure is performed on the segments to yield a corrected template; and correction data of the corrected template is selected according to the clip mask. The correction data for the templates are aggregated to correct the mask pattern.
机译:校正掩模图案包括分割掩模图案以产生模板。对每个模板重复以下步骤以生成校正数据:为被选为主模板的模板生成剪贴蒙版;主模板与上下文模板合并以产生合并模板;合并后的模板被划分为包含片段的片段,其中片段蒙版与合并后的模板的交点定义片段的端点。对所述片段执行接近度校正程序以产生校正后的模板;根据剪辑模板选择校正后模板的校正数据。模板的校正数据被汇总以校正掩模图案。

著录项

  • 公开/公告号US2004181767A1

    专利类型

  • 公开/公告日2004-09-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED;

    申请/专利号US20030386286

  • 发明设计人 ROBERT A. SOPER;

    申请日2003-03-10

  • 分类号G06F17/50;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 23:22:20

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