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Method of enhancing clear field phase shift masks with border regions around phase 0 and phase 180 regions

机译:增强具有围绕相位0和相位180区域的边界区域的明场相移掩模的方法

摘要

A technique in which a first boundary region is added to the ends of phase zero (0) pattern defining polygons and a second boundary region is added to the ends of phase 180 pattern. This technique can improve line end pattern definition and improve the manufacturability and patterning process window. The added boundary region balances the light on both sides of the line ends, resulting in a more predictable final resist pattern.
机译:一种技术,其中将第一边界区域添加到定义多边形的零相位( 0 )模式的末端,并将第二边界区域添加到相位 180 样式的末端。该技术可以改善线端图案的清晰度,并改善可制造性和图案化工艺窗口。增加的边界区域使线末端两侧的光平衡,从而产生更可预测的最终抗蚀剂图案。

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