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机译:相移掩模-空白,相移掩模及其制造工艺
公开/公告号AT262689T
专利类型
公开/公告日2004-04-15
原文格式PDF
申请/专利权人 SHIN-ETSU CHEMICAL CO. LTD.;
申请/专利号AT20010300097T
发明设计人 MORIYA JIRO;SUZUKI MASAYUKI;MARUYAMA TAMOTSU;KANEKO ICHIRO;OKAZAKI SATOSHI;
申请日2001-01-05
分类号G03F1/00;
国家 AT
入库时间 2022-08-21 23:06:41
机译: 相移掩模-空白,相移掩模及其制造工艺
机译: 空白的相移掩模,相移掩模和制造工艺