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Lateral power MOSFET having metal strap layer to reduce distributed resistance and method of fabricating the same

机译:具有金属表带层以减小分布电阻的横向功率MOSFET及其制造方法

摘要

To reduce the distributed resistance in an integrated circuit die, a relatively thick metal strap layer is deposited on a bus or other conductive path in the top metal layer. The metal strap layer is formed by etching a longitudinal channel in the passivation layer over the bus and plating a thick metal layer, preferably nickel, in the channel. The metal strap layer dramatically reduces the resistance of the bus. IMAGE IMAGE IMAGE
机译:为了减小集成电路管芯中的分布电阻,将相对较厚的金属条带层沉积在顶部金属层中的总线或其他导电路径上。通过在总线上方的钝化层中蚀刻纵向通道并在该通道中电镀厚金属层(优选为镍)来形成金属带层。金属带层大大降低了总线的电阻。 <图像> <图像> <图像>

著录项

  • 公开/公告号EP0720225B1

    专利类型

  • 公开/公告日2004-10-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SILICONIX INCORPORATED;

    申请/专利号EP19950309533

  • 发明设计人 WILLIAMS RICHARD K.;

    申请日1995-12-29

  • 分类号H01L23/482;H01L23/528;H01L29/78;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 22:58:38

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