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A process for preparation of an electrical contact region on an n-conductive AlGaInP-based layer by the steps useful in semiconductor technology

机译:通过半导体技术中有用的步骤在n导电AlGaInP基层上制备电接触区的方法

摘要

A process for preparation of an electrical contact region on an n-conductive AlGaInP-based layer by:application of an electrical contact material containng Au and at least one doping material, i.e. an element from the group Ge, Si, Sn, and Te, and of tempering the n-conductive AlGaInP-based layer. An independent claim is included for a structural element having an epitaxial semiconductor layer series with an electromagnetic radiation emitting active zone.
机译:一种用于在n型基于AlGaInP的导电层上制备电接触区域的方法,该方法包括:施加包含Au和至少一种掺杂材料(即Ge,Si,Sn和Te中的元素)的电接触材料,并回火基于n导电的AlGaInP基层。对于具有外延半导体层系列的结构元件包括独立的权利要求,该外延半导体层系列具有发射电磁辐射的有源区。

著录项

  • 公开/公告号DE20320295U1

    专利类型

  • 公开/公告日2004-08-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH;

    申请/专利号DE2003220295U

  • 发明设计人

    申请日2003-02-26

  • 分类号H01L33/00;H01L21/283;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 22:42:19

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