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Electron beam tilt measurement method and slope calibration method and electron beam proximity exposure apparatus in electron beam proximity exposure apparatus

机译:电子束接近曝光装置中的电子束倾斜测量方法和斜率校准方法以及电子束接近曝光装置

摘要

PPROBLEM TO BE SOLVED: To calibrate an electron beam to perform scanning with its attitude held in parallel with the optical axis in the electron beam scanning of a whole mask surface in an electron beam proximity exposure system. PSOLUTION: The inclination of an electron beam 15 is measured by using an electron beam inclination sensor 70 comprising a stencil mask 70A with a specified pattern formed thereon and an image sensor 70B positioned away from the stencil mask 70A by a specified distance. From the inclination thus measured, an inclination correcting value is determined for use in zeroing the inclination of the electron beam 15, and calibration is performed for the electron beam 15 to be in parallel with the optical axis irrespective of where the electron beam 15 scans. PCOPYRIGHT: (C)2004,JPO
机译:

要解决的问题:在电子束邻近曝光系统中,在整个掩模表面的电子束扫描中,校准电子束以使其姿态保持与光轴平行的方式执行扫描。

解决方案:通过使用电子束倾斜度传感器70来测量电子束15的倾斜度,该电子束倾斜度传感器70包括在其上形成有指定图案的模板掩模70A和与模板掩模70A隔开指定距离定位的图像传感器70B。根据这样测得的倾斜度,确定用于将电子束15的倾斜度归零的倾斜度校正值,并且对电子束15进行校准以使电子束15与光轴平行,而与电子束15的扫描位置无关。

版权:(C)2004,日本特许厅

著录项

  • 公开/公告号JP3714280B2

    专利类型

  • 公开/公告日2005-11-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社リープル;

    申请/专利号JP20020139498

  • 发明设计人 樋口 朗;穴澤 紀道;

    申请日2002-05-15

  • 分类号H01L21/027;G03F7/20;H01J37/147;H01J37/305;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 22:28:23

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