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Complete device layer transfer without edge exclusion via direct wafer bonding and constrained bond-strengthening process

机译:通过直接晶圆键合和受约束的键合强化工艺完成器件层转移,而不会排除边缘

摘要

More complete bonding of wafers may be achieved out to the edge regions of the wafer by constrained bond strengthening of the wafers in a pressure bonding apparatus after direct wafer bonding. The pressure bonding process may be accompanied by the application of not above room temperature.
机译:通过在直接晶片键合之后在压力键合设备中对晶片的约束键合加强,可以实现晶片到晶片边缘区域更完整的键合。压接过程可能会伴随施加不高于室温的温度。

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