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Silicon on insulator (SOI) negative differential resistance (NDR) based memory device with reduced body effects

机译:基于绝缘体上硅(SOI)负差分电阻(NDR)的存储器件,具有减小的主体效应

摘要

A silicon-on-insulator (SOI) memory device (such as an SRAM) using negative differential resistance (NDR) elements is disclosed. Body effect performances for NDR FETs (and other FETs) that may be used in such device are enhanced by floating a body of some/all the NDR FETs.
机译:公开了一种使用负差分电阻(NDR)元件的绝缘体上硅(SOI)存储器件(例如SRAM)。通过使一些/所有NDR FET的主体悬空,可以增强在此类设备中使用的NDR FET(和其他FET)的主体效应性能。

著录项

  • 公开/公告号US6864104B2

    专利类型

  • 公开/公告日2005-03-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TSU-JAE KING;

    申请/专利号US20020215137

  • 发明设计人 TSU-JAE KING;

    申请日2002-08-08

  • 分类号H01L21/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 22:19:15

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